用相干滤光术识别半导体集成电路掩模误差的问题

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一、引言现代半导体集成电路是用光模制成的。在一块光模上,一道工序就排列了数百个集成电路。每一个集成电路需要一组不同的光模,例如六块。从下列的表格中可看出对掩模工艺的高要求: First, the introduction of modern semiconductor integrated circuits are made of light. On a light module, hundreds of integrated circuits are arranged in a single process. Each integrated circuit requires a different set of optical modes, for example six. The high requirements for the mask process can be seen in the following table:
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