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利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件.分析了影响深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨.通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%.
连续面形微光学元件的深刻蚀工艺
【摘 要】
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利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件.分析了影响深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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2003年3期
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