【摘 要】
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散射X射线的理论强度计算法,即背景FP法,作为一种可定量测定树脂薄膜膜厚的新的分析方法之一受到注视。背景FP法是根据新的想法,在以往使用的FP法上添加计算散射X射线的理论
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散射X射线的理论强度计算法,即背景FP法,作为一种可定量测定树脂薄膜膜厚的新的分析方法之一受到注视。背景FP法是根据新的想法,在以往使用的FP法上添加计算散射X射线的理论强度而发展起来的。背景FP法作为本公司独自开发的数据处理方法之一,配备于岛津XRF-1700型顺序扫描X荧光
The theoretical intensity calculation of scattered X-rays, the background FP method, is being watched as one of the new analytical methods for quantitatively measuring the film thickness of resin films. Background The FP method was developed based on the new idea of adding the theoretical intensity of scattered X-rays to FP methods used in the past. Background FP method, one of the data processing methods developed by our company, is equipped with Shimadzu XRF-1700 sequential scanning X-ray fluorescence
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