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运用ＳＦ６运行的表面波持续磁等离子体反应器研究基片温度（从Ｔｓ＝＋２０℃到Ｔｓ＝－４５℃）对钨材蚀刻性（蚀刻率及有向性）的影响。根据蚀刻性与氟原子浓度及离子流密度的关系，我们发觉当基片温度与ＳＦ６气压降低时，离子协助下的蚀刻现象比自发的化学蚀刻更为显著，在没有外部磁化的情况下，强的蚀刻有向性同时伴随有较强的亚微米均匀性（０．２～１μｍ）我们研究的结果显示出在基片温度（当其降低时，障碍自发的化学反应