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以薄膜内应力为指标，对SU-8负性光刻胶的工艺参数进行了优化．根据基片曲率法的原理，通过三因素三水平的正交实验，测量了9组不同工艺条件下SU-8胶层内应力的大小．引入模糊神经网络，对影响SU-8胶内应力的工艺参数进行了优化仿真研究．以正交实验数据为样本，对模糊神经网络进行训练，建立了SU-8胶内应力的大小与前烘温度、曝光剂量和后烘温度3个主要参数之间的预测模型．同时对网络预测结果进行了实验验证，两者结果基本吻合．利用网络优化结果，有效地降低了胶层内应力．