氟化电热蒸发/ICP—AES直接测定SiO2中痕量Fe

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对氟化电热蒸发(FETV)/ICP-AES技术中元素的氟化蒸发行为,基体效应和粒度效应进行了考察,确定了杂质(Fe)与基体(Si)分离的最佳实验条件,本法用于SiO2中痕量Fe的直接测定,有灵敏,简便,试样消耗少和不需化学处理等优点。
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