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通过分析等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的特点,对残余氯的存在机制、等离子体场中离子轰击对氯在TiN膜内分布的影响作了进一步的讨论.运用经典偏聚理论,根据空位、位错特点,建立了PECVD过程中离子轰击促进氯向晶界、微孔表面等界面处偏聚的模型,从而完满地解释了文献中的有关实验现象.
残余氯在等离子体增强化学气相沉积TiN膜中的偏聚过程研究
【摘 要】
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通过分析等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的特点,对残余氯的存在机制、等离子体场中离子轰击对氯在TiN膜内分布的影响作了进一步的讨论.运用经典偏聚理论,根据空位、位错特
【机 构】
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江苏工业学院材料科学与工程系
【出 处】
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江苏工业学院学报
【发表日期】
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2004年1期
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