【摘 要】
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以纯铝为靶材,在不同溅射气压下采用直流磁控反应溅射方法制备了Al2O3薄膜.用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、台阶仪、绝缘电阻仪和精密阻抗分析仪等分析了薄膜的
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以纯铝为靶材,在不同溅射气压下采用直流磁控反应溅射方法制备了Al2O3薄膜.用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、台阶仪、绝缘电阻仪和精密阻抗分析仪等分析了薄膜的表面形貌、化学成分、结构、薄膜厚度和电学性能.结果表明,随着溅射压力增大,薄膜的颗粒尺寸和厚度减小,组织细密 薄膜的化学成分主要为Al、O元素,铝氧原子比接近2：3,在250℃的低温下,溅射态的Al2O3薄膜均为非晶结构,溅射压力对Al2O3薄膜的结构和化学成分影响不明显 溅射压力为1.0 Pa时的薄膜,其电阻和电阻率较
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