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研究了聚合物在无显影气相光刻地过程中的作用，由此解释了无显影气相光刻过程中曝光区和非曝光区高腐蚀速度差，高分辨率和高腐蚀纵宽比的原因。
聚合物在无显影气相光刻工艺中的作用
【摘 要】
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研究了聚合物在无显影气相光刻地过程中的作用，由此解释了无显影气相光刻过程中曝光区和非曝光区高腐蚀速度差，高分辨率和高腐蚀纵宽比的原因。
【机 构】
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清华大学化学系,北京市化工研究院
【出 处】
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高分子学报
【发表日期】
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1994年2期
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