【摘 要】
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采用磁控溅射法制备了C掺杂TiO2薄膜,并研究了氮气引入溅射过程对薄膜光学性能的影响.利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪、分光光度计和原子力显微镜分析了不
【机 构】
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南京航空航天大学理学院,南京,211106南京航空航天大学理学院,南京211106;南京航空航天大学材料科学与技术学院江苏省能量转换材料与技术重点实验室,南京211106;
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采用磁控溅射法制备了C掺杂TiO2薄膜,并研究了氮气引入溅射过程对薄膜光学性能的影响.利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪、分光光度计和原子力显微镜分析了不同氮气流量下薄膜的微结构、元素价态、透光性能和表面形貌.结果 表明,沉积的薄膜主要是非晶结构,拉曼光谱中存在少量锐钛矿相,且随着氮气流量增大,锐钛矿特征峰强度减弱,意味着晶粒出现细化.当氮气流量增大为4 cm3/min时,C掺杂TiO2薄膜内氮元素含量为3.54％,其光学带隙从3.29 eV变化至3.55 eV,可见光区的光学透过率明显提高.可见改变氮气流量可实现对C掺杂TiO2薄膜光学带隙和光吸收率的有效调控.
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