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论述了集成光学光刻、镀膜工艺中对基片的清洗步骤,阐述了常规材料的腐蚀方法及腐蚀液配制,并分析了腐蚀工艺过程中易出现的问题.
集成光学制备工艺中的清洗和腐蚀
【摘 要】
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论述了集成光学光刻、镀膜工艺中对基片的清洗步骤,阐述了常规材料的腐蚀方法及腐蚀液配制,并分析了腐蚀工艺过程中易出现的问题.
【机 构】
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北京航空航天大学光电技术研究所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2005年1期
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