随着高速、干式切削技术的发展,要求刀具涂层在具备高硬度的同时还应具有优良的高温抗氧化性.1987年发现两种氮化物以纳米量级交替沉积形成多层结构时常伴有硬度异常升高的超硬效应,据此,Sproul于1996年提出了采用两种氧化物制备纳米多层膜的技术路线,以期获得同时具有高硬度和优良抗氧化性能的纳米多层膜.但按此技术路线制备的Al2O3/ZrO2和Y2O3/ZrO2纳米多层膜并未获得预期效果.最近,我们采用氮化物晶体层的模板作用强制氧化物层晶化的技术路线,已成功制备了具有超硬效应的TiN/SiO2和TiN/Al2O3纳米多层膜.然而,在这些多层膜中TiN、SiO2和Al2O3均是采用化合物靶在Ar气氛中通过射频溅射获得的.由于陶瓷靶溅射速率低,这种制备纳米多层膜的方法难以在工业生产中推广应用.为了获得高沉积速率的氮化物/氧化物纳米多层膜,本文研究了在Ar、N2混合气氛中采用反应溅射方法制备ZrN/AlON纳米多层膜并研究了其生长结构。