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使用硅酸钠／氟硅酸钠复合硅源，通过仿生合成方法在大理石表面制备得到了一层SiO2为主要成分的保护膜，并对该膜的性能进行了检测评价。运用傅里叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜对膜的结构和形貌进行了表征，探讨了SiO2的成膜机理。结果表明，运用复合硅源可在近中性条件下在大理石表面形成Si02膜，SiO2颗粒以球形形态沉积在大理石表面，表现出成核、颗粒长大和颗粒堆聚3个阶段。24h可形成较完整、均匀致密的保护层。该膜不仅具有优良的耐酸、耐候性，还具有良好的透气性能。