高岭石-葡萄糖插层原位合成Sialon粉体

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利用极性有机分子十二烷基胺插层高岭石,葡萄糖层间取代的方法合成高岭石-葡萄糖插层复合物。以高岭石.葡萄糖插层复合物为前驱体,采用原位碳热还原、氮化反应技术,在1450℃保温4h,以500mL/min的N2流量的反应条件合成了Sialon粉体。并运用XRD、FT-IR、TG、DSC等技术表征反应过程和产物特征。研究表明,十二烷基胺插层复合物中,高岭石的d001值扩大为2.280nm,高岭石.葡萄糖插层复合物中,高岭石的d001值由0.717nm扩大为3.364nm,插层率达87%。插层复合物原位碳热还原、氮
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