CO和NO在Rh—V/SiO2上吸附的红外光谱研究

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应用原位红外光谱研究了CO和NO在还原态Rh/SiO2,Rh-V/SiO2催化剂上的化学吸附。573K氢还原后,Rh/SiO2上的部分Rh中心处于Rh^0和Rh^δ+(δ≤1)两种状态。加入助剂V后,Rh与V之间发生了某种化学作用,这种作用有利于Rh金属向钒离子转移电子生成Rh^δ+中心。由CO和NO共吸附结果可得:NO对CO吸附具有两种影响,一是取代CO,二是使Rh^0中心部分氧化生成Rh^δ+
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