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对上海同步辐射装置（SSRF）的一条用于XAFS研究的光束线的初步设计进行了介绍.该设计以弯铁辐射作为光源，光束线光学系统采用聚焦和不聚焦两种光学模式.用追迹程序Shadow对光束线性能进行模拟计算，聚焦模式在5～25keV的能量范围内样品位置的光斑尺寸为0.5×0.5mm2，光强高于1011photons/s，高次谐波成分小于10-4，适合于用荧光XAFS方法研究低浓度及表面样品体系；不聚焦模式可用的能量范围较宽(4～40keV)，样品位置的光斑尺寸小于50×2mm2，光强高于109