【摘 要】
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为研究基体温度对纳米复合膜结构和耐蚀性的影响,以Ti和Ni为靶材,利用反应磁控共溅射技术在100~400℃温度下沉积了Ti N/Ni纳米复合膜,采用XRD、XPS、AFM、FESEM/EDS、电化学
【机 构】
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沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(51171118);辽宁省高等学校优秀人才支持计划(LR2013054)~~
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为研究基体温度对纳米复合膜结构和耐蚀性的影响,以Ti和Ni为靶材,利用反应磁控共溅射技术在100~400℃温度下沉积了Ti N/Ni纳米复合膜,采用XRD、XPS、AFM、FESEM/EDS、电化学技术和划痕试验表征研究复合膜的微结构、耐蚀性和膜基结合力。结果表明：该膜含有面心立方的Ti N和Ni相,其择优取向由低温时的Ti N（111）面转变为高温时的Ti N（200）面。随温度增加,复合膜晶粒尺寸和均方根表面粗糙度先减小后增大,并在温度200℃时达最小。复合膜的界面结合力随温度增加先增大后下降,在30
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