用热丝法制备优质稳定非晶硅薄膜的研究

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系统地研究了低压热丝化学汽相沉积技术中沉积气压、衬底温度、钨丝温度等参量对氢化非晶硅膜结构、光电特性及稳定性的影响。结果表明,沉积气压是影响非晶硅膜的最主要参数,在优化沉积参数的条件下制备非晶硅,其稳定性有很大改进
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