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采用单因素试验法,研究某低品位硫化铜精矿(Cu7.42%(质量分数))在NH3-NH4Cl-H2O体系中的氧化浸出行为。结果表明:在液固比4:1、[NH3·H2O]=1mol/L、[NH4Cl]=3mol/L、氧化剂过量系数1.4、原料粒度94~124μm、浸出时间2h、温度30℃的条件下,该低品位硫化铜矿浸出率98.89%;并在此基础上开展了从该低品位硫化铜精矿铜氨浸出液中直接脉冲电积铜的工艺优化试验。结果表明:在[NH4Cl]=3mol/L、[NH3·H2O]=1.5mol/L、[