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最近．普林斯顿大学（Pdnceton University）的研究人员在Nanotechnology（（纳米技术》杂志上发表了两篇论文．介绍了他们在纳米压印光刻（NIL）领域内的重大进展．推动这项技术向着成为可行的、用于主流半导体制造的下一代光刻技术（NGL）选择方案迈进了几大步。
Princeton小组加深对纳米压印的理解
【摘 要】
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最近．普林斯顿大学（Pdnceton University）的研究人员在Nanotechnology（（纳米技术》杂志上发表了两篇论文．介绍了他们在纳米压印光刻（NIL）领域内的重大进展．推动这项技术向着成为可行的
【出 处】
：
集成电路应用
【发表日期】
：
2007年5期
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