【摘 要】
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NEC电子公司开发出名为UX7LS的55nm节点工艺,采用了浸入式光刻和高k材料。该工艺可提供比65nm工艺在操作和待机模式下低十分之一的功耗。UX7LS是对65nm工艺的改进版本。通过
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NEC电子公司开发出名为UX7LS的55nm节点工艺,采用了浸入式光刻和高k材料。该工艺可提供比65nm工艺在操作和待机模式下低十分之一的功耗。UX7LS是对65nm工艺的改进版本。通过将65nm工艺技术与高k薄膜结合,开发出了极限低功率LSI,该工艺将适于手机、移动消费类产品以及网络系统的
NEC Electronics has developed a 55nm node process called UX7LS, using immersion lithography and high-k materials. This process offers less than one-tenth the power consumption of 65nm technology in both operating and standby modes. UX7LS is an improved version of the 65nm process. By combining 65nm process technology with high-k thin film, Extreme Low Power LSI has been developed that will be suitable for cell phones, mobile consumer products, and network systems
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