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在多晶硅太阳能电池中SiNx薄膜是最常见的一种减反射膜,在沉积完SiNx薄膜后一般都需要经过一步高温烧结的工艺使银浆与发射区形成欧姆接触。因此,研究高温退火条件对SiNx薄膜性能的影响十分重要。实验结果表明,高温退火对富Si的SiNx薄膜的影响较大。
高温处理对SiNx薄膜性能的影响研究
【摘 要】
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在多晶硅太阳能电池中SiNx薄膜是最常见的一种减反射膜,在沉积完SiNx薄膜后一般都需要经过一步高温烧结的工艺使银浆与发射区形成欧姆接触。因此,研究高温退火条件对SiNx薄膜
【机 构】
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闽江学院物理与电子信息工程学院
【出 处】
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产业创新研究
【发表日期】
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2019年11期
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