【摘 要】
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本文采用超高真空射频磁控溅射法,通过改变沉积气压、沉积时间以及进行退火处理在普通白玻基底上制备VO2薄膜.利用XD-3型X射线衍射仪对薄膜的物相进行分析,UV-3600多功能分光
【机 构】
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天津市建筑材料科学研究院,天津,300381天津师范大学物理与材料科学学院,天津,300387;
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本文采用超高真空射频磁控溅射法,通过改变沉积气压、沉积时间以及进行退火处理在普通白玻基底上制备VO2薄膜.利用XD-3型X射线衍射仪对薄膜的物相进行分析,UV-3600多功能分光光度计测试薄膜在可见光段的透过率,XP-2型台阶仪测试薄膜样品的厚度,扫描电子显微镜观察样品的微观形貌.结果表明,沉积气压为0.7Pa时获得的薄膜在可见光波段具有较高的透过率;沉积时间为60min时,薄膜较为平整且对可见光的透过率较高为38％;退火处理提高了薄膜的结晶性和透过率,制备出单斜结构的VO2薄膜,且具有(011)晶面择优取向.
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