【摘 要】
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2006年9月19日,投资2980万美元的国内首条砷化镓化合物半导体芯片工业生产线竣工,年生产能力达4.2万片。标志着南京高新区打造国内化合物半导体芯片材料重要生产研发产业基地
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2006年9月19日,投资2980万美元的国内首条砷化镓化合物半导体芯片工业生产线竣工,年生产能力达4.2万片。标志着南京高新区打造国内化合物半导体芯片材料重要生产研发产业基地,进入了实质阶段。砷化镓化合物半导体是继硅之后研究最深入、应用最广泛的半导体材料,它既是光电子材
September 19, 2006, invest 29.8 million US dollars in China’s first gallium arsenide compound semiconductor chip industrial production line completed, the annual production capacity of 42,000. Marking the Nanjing High-tech Zone to create a domestic compound semiconductor chip material important production R & D industry base, entered a substantive stage. Gallium arsenide compound semiconductor is the most in-depth study after silicon, the most widely used semiconductor material, which is both optoelectronic materials
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