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高岭石及其有机插层复合物在高性能陶瓷领域有着良好的应用前景。本文利用微波技术，以DMSO作为前驱体，制备高岭石/丙烯酰胺插层复合物，发现微波对丙稀酰胺的插层反应具有相当明显的促进作用，反应时间从通常的几天缩短到几个小时。采用X-射线衍射、FT-IR光谱、TG等技术对其进行表征。结果表明：反应2小时后，该插层复合物的层间距即可扩大为1．139nm，其键合方式发生了改变，形成新的氢键。这为工业生产高岭石有机插层物以及制造纳米级高岭土提供了高效的新途径，并为进一步生产高性能陶瓷方面打下了基础。