恒电位法制备不同织构氧化亚铜薄膜工艺的研究

来源 :安徽建筑大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zxc694134272
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本文采用恒电位法探索了CuSO4和乳酸溶液在摩尔比为1:3的条件下络合,以三电极体系在导电玻璃上沉积Cu2O薄膜的最佳工艺条件。通过分析Cu^2+与络合剂乳酸在不同的溶液温度,沉积电位、以及溶液pH的条件下络合,来确定其对Cu2O薄膜的影响。采用X -射线衍射分析和扫描电子显微镜对薄膜样品结构和形貌进行表征。结果表明,在Cu^2+与乳酸的摩尔比为1:3,溶液温度为65℃~75℃,沉积电位为-1.2V~-2.8V ,溶液的 pH=10~12的条件下,得到(111)择优取向生长的 Cu2O 薄膜,呈砖红色,致
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