【摘 要】
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在低共熔溶剂中添加乙二胺四乙酸（EDTA）和氯化铵2种添加剂电沉积制备Zn?Ni合金镀层。研究添加剂对合金电沉积行为、成分、形貌和腐蚀性能的影响。循环伏安测试表明，EDTA的加入可
【机 构】
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浙江大学硅材料国家重点实验室，杭州 310027 浙江大学材料科学与工程学院，杭州 310027;
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在低共熔溶剂中添加乙二胺四乙酸（EDTA）和氯化铵2种添加剂电沉积制备Zn?Ni合金镀层。研究添加剂对合金电沉积行为、成分、形貌和腐蚀性能的影响。循环伏安测试表明，EDTA的加入可以促进Zn进入Zn?Ni镀层中，而氯化铵起抑制Zn还原的作用。随着EDTA含量的增加，镀层中的Zn含量增加，但镀层的晶粒尺寸和电流效率降低。氯化铵浓度的增大能够有效地降低镀层的晶粒尺寸和 Zn 的含量，提高阴极电流效率。腐蚀实验表明，从含有氯化铵的镀液中得到的Zn?Ni镀层比从含有EDTA的镀液中得到的镀层具有更高的耐腐蚀性能。此外，添加剂的加入提高了镀层的耐腐蚀性能。
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