【摘 要】
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针对传统双面抛光机存在的抛光过程中的加载均匀性问题,对抛光机传动机构进行优化改进设计,并在此抛光机上对硅晶片进行抛光加工试验,通过试验研究了不同加工参数对硅晶片表
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针对传统双面抛光机存在的抛光过程中的加载均匀性问题,对抛光机传动机构进行优化改进设计,并在此抛光机上对硅晶片进行抛光加工试验,通过试验研究了不同加工参数对硅晶片表面粗糙度和材料去除率的影响。试验研究结果表明:传动机构优化设计提高了行星式研磨抛光机床的精度和系统性能;在相同的加工速度下,改造前后抛光机的加工效率接近,改造后对工件加工的表面粗糙度约为改造前的1/3。该设备的改造设计对提高抛光机的加工精度有重要意义。
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