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干法刻铝中，ＢＣｌ３添加Ｃｌ２、ＣＨＣｌ３和Ｎ２，可改变Ａｌ的刻蚀速率、Ａｌ对ＳｉＯ２和胶的选择性、线宽和胶膜质量，其中Ｃｌ２流量影响最大。此外，本文还给出了ＲＦ功率和气压的影响。采用适当的气体组合、不太高的功率和不态低的气压（ＢＣｌ３：Ｃｌ２：ＣＨＣｌ３：Ｎ２＝７０ｓｃｃｍ：１５ｓｃｃｍ：１０ｓｃｃｍ：０￣５０ｓｃｃｍ，２００ｍＴｏｒｒ，２００Ｗ）可以实现细线条（０．６μｍ）Ａｌ的刻蚀。