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用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以φ220mm内的单晶硅进行了超光滑表面抛光工艺试验.试验结果,单晶硅表面粗糙度RMS值达0.37nm,平面面形误差PV小于λ/15,且加工工艺技术稳定可靠.
单晶硅镜面超光滑表面工艺技术研究
【摘 要】
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用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以φ220mm内的单晶硅进行了超光滑表面
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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2003年5期
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