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研制出一种新型ＳｉＯ－Ｔａ２Ｏ３复合介质薄膜电容器。复合介质膜是用溅射法将ＳｉＯ和Ｔａ２Ｏ３材料溅射在微晶玻璃片上形成的，其下电极Ａｌ和上电极Ａｕ是用蒸发法制备近种电容器具有耐压强度高，损耗小等特点。
新型SiO—Ta2O5复合介质薄膜电容器的研究
【摘 要】
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研制出一种新型ＳｉＯ－Ｔａ２Ｏ３复合介质薄膜电容器。复合介质膜是用溅射法将ＳｉＯ和Ｔａ２Ｏ３材料溅射在微晶玻璃片上形成的，其下电极Ａｌ和上电极Ａｕ是用蒸发法制备近种电容器具有耐压强度高，损耗小等特点。
【机 构】
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沈阳工业大学信息科学与工程学院
【出 处】
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沈阳工业大学学报
【发表日期】
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1999年5期
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