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从半导瓷和金属电极的欧姆接触理论出发,详细的叙述了PTCR欧姆接触电极的各种主要制备方法.通过对这些方法的优缺点的分析,指出磁控溅射法由于具有制备工艺简单、无工业污染、电极成本低廉、膜层致密均匀、附着力强等优点,将在PTCR欧姆接触电极的制备工艺中占据重要地位,工业前景广阔.
PTCR欧姆接触电极制备方法现状
【摘 要】
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从半导瓷和金属电极的欧姆接触理论出发,详细的叙述了PTCR欧姆接触电极的各种主要制备方法.通过对这些方法的优缺点的分析,指出磁控溅射法由于具有制备工艺简单、无工业污染
【机 构】
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华中科技大学电子科学与技术系
【出 处】
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仪表技术与传感器
【发表日期】
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2004年12期
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