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工业水处理中，原水中硅含量过高会导致胶体SiO2垢的形成，硅垢一旦形成便难以去除，给工业生产带来许多隐患。研究了一种新型非离子聚合物TJ—SIOII对胶体SiO2垢沉积的影响，并与传统有机膦阻垢剂（包括PBTC、EDTMP、HEDP、DTPMP、ATMP、PAPEMP和HDTMP）进行对比试验，结果表明，TJ-SIOII是一种优良的硅垢阻垢剂，而传统有机膦药剂对胶体SiO2垢沉积基本无抑制作用。