【摘 要】
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等离子体源离子注入技术(PSII)的工作原理是将工件直接浸泡在等离子体中,然后在工件上施加一负高压脉冲,通过等离子体鞘层加速实现对工件的全方位离子注入,并配以金属等离子
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等离子体源离子注入技术(PSII)的工作原理是将工件直接浸泡在等离子体中,然后在工件上施加一负高压脉冲,通过等离子体鞘层加速实现对工件的全方位离子注入,并配以金属等离子体源可实现对工件的全方位离子注入增强沉积(简称PSII+IBED),从而达到提高工件寿命的目的。
Plasma Source Ion Implantation (PSII) works by immersing a workpiece directly in a plasma and applying a negative high-voltage pulse to the workpiece to accelerate the full ion implantation of the workpiece through the plasma sheath, with The metal plasma source can achieve all-directional ion implantation enhanced deposition (referred to as PSII + IBED) of the workpiece to achieve the purpose of improving the life of the workpiece.
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