【摘 要】
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以胶体SiO2溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳–核结构完整的CeO2/SiO2纳米复合磨粒。采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过
【机 构】
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无锡商业职业技术学院机电技术学院,江南大学机械工程学院,无锡通用机械厂有限公司
【基金项目】
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国家自然科学基金(51675232),江苏省高等学校自然科学研究面上项目(19KJB460023)
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以胶体SiO2溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳–核结构完整的CeO2/SiO2纳米复合磨粒。采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过粒径分布、Zeta电位分析,研究水相分散系中pH值对CeO2/SiO2复合磨粒分散性的影响。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合磨粒为壳–核包覆结构完整的纳米微球,粒径约110 nm,内核为无定形SiO2,壳层为立方萤石型CeO2;CeO2/SiO2复合磨粒的等电位点pH值约为5,其值由SiO2等电位点向CeO2等电位点明显偏移
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