结合不可分小波分析和曲线拟合方法的图像对比度增强

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jyjs1234
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
传统的图像对比度增强技术容易造成图像的局部区域过分增强或增强不足等问题,因此提出了一种结合不可分小波分析和曲线拟合的图像对比度增强方法。该方法以标准清晰图像的均值和标准差作为图像对比度增强的理想目标,首先对同一目标的标准清晰图像和低对比度图像进行四通道不可分小波分解,然后利用曲线拟合的预测能力得出分解后具有相同频率通道和相同方向子图像的均值之间及标准差之间的函数关系,通过该函数关系和直方图匹配公式即可得到理想的增强后的子图像,最后将这些新的子图像进行不可分小波重构,并采用清晰度、标准差指标对图像对比
其他文献
期刊
设计了一个由金纳米结构顶层、中间介质层和金属基底层构成的复合超材料结构。其中,金属纳米结构顶层是由三个椭圆形纳米盘所组成的“工”字形单元阵列,中间介质层是二氧化硅,金属基底层是金膜。利用有限元方法研究了该结构的吸收特性、电场分布及折射率传感特性。结果表明:该结构的吸收光谱中出现了三个吸收峰,其吸收率分别达到91.06%、99.63%和97.26%。此外,研究了结构参数和周围环境介质对吸收率的影响及其折射率变化的响应特性,折射率灵敏度最大达到425 nm/RIU(RIU为单位折射率),品质因数(FOM)为1
通过合理设计谐振腔参数, 并采用内置扩束透镜组, 获得了一种小体积高效率、液冷和电光调Q激光器。激光器电光转换效率为1.4%, 输出单脉冲能量大于100 mJ。激光器腔长250 mm, 输出脉冲宽度为10~15 ns, 激光器5 Hz工作时激光远场束散角为1.6 mrad, 20 Hz为1.8 mrad,光斑直径为5 mm, 能量稳定度小于5%。
通过在周期性梳状折射率结构的最外层增加一个高折射率平台的方法,对梳状折射率分布大模场光纤的波导结构进行了优化,使其在模场面积、模场分布及抗弯曲性能方面都有明显提升。模拟研究结果表明,与已有单一梳状折射率分布的光纤相比,优化后的大模场光纤的模场面积提高了700 μm2以上,且在相同弯曲半径下,基模弯曲损耗由6 dB/m降低为0.1 dB/m。此外,通过对最外层高折射率平台的参数进行调制可实现不同的模场分布,包括高斯分布、平坦化分布和环状分布,满足特殊激光加工工业的应用需求。
高光谱成像能够提供比普通RGB图像更全的光谱信息,在监测自然环境变化、农业植被土壤分类等具有广泛的应用。从单幅RGB图像重建高光谱信息是严重欠约束问题,传统重建算法需要增加光学组件或已知相机光谱响应,在实际应用中往往不能满足要求。针对此问题,提出一种端到端对抗生成网络,设计一种改进残差结构作为对抗网络的基本模块,使用多尺度特征金字塔融合局部和全局特征并捕获像素空间上下文信息;提出了新的WNet网络
实验研究了热致非线性效应作用下,C60甲苯溶液中强连续激光激发暗空间光孤子的过程,并给出了数值模拟结果。
期刊
Optimum laser configurations are presented to achieve high illumination uniformity with directly driven inertial confinement fusion targets. Assuming axisymmetric absorption pattern of individual laser beams, theoretical models are reviewed in terms of th
采用高温固相反应法制备了Si4 、Ge4 和Sn4 离子掺杂的LiGa5O8∶Cr3 长余辉材料, 系统研究了掺杂对LiGa5O8∶Cr3 光致发光和长余辉性能的影响。实验结果表明, 所制备的系列材料能产生650~800nm的近红外余辉发射, 主发射峰位于717nm, 来源于Cr3 离子的2E→4A2特征跃迁, 与未进行掺杂的样品相比, 掺杂Si4 、Ge4 和Sn4 离子的LiGa5O8∶Cr3 余辉发光强度均得到增强, 余辉性能显著改善。热释光测试结果表明, Si4 、Ge4 和Sn4 离子掺入主要提
利用劳厄晶体研究了X射线的单色衍射性质,研究了对数螺旋型劳厄弯晶在等离子体X射线单色成像中的应用。根据光线追迹原理及对数螺旋线的表面方程,研究了对数螺旋型劳厄弯晶的单色成像原理,分析了单色衍射像不受透射白光X射线影响的准则,以及子午、弧矢放大倍数和单色成像视场等性能参数。研制了石英晶体(1010)对数螺旋劳厄弯晶分析器,以铜靶X射线源作为背光源,对网丝直径为50 μm的金属网格进行了单色背光成像实验。实验结果表明,当背光源尺寸为110 μm时,对数螺旋型劳厄弯晶的空间分辨力约为11.9 μm,分析器在子午