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利用介质阻挡放电原理，在自行研制的设备上进行了常压非平衡等离子体渗氮。研究表明，在等离子环境中，试样表面能迅速获得很深的渗层和白亮层，而电场外试样几乎无渗层。说明电场内气体电离率高，活性粒子浓度高。整个工艺过程操作简便，是一种很有发展前景的新工艺。
常压等离子体渗氮工艺的研究
【摘 要】
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利用介质阻挡放电原理，在自行研制的设备上进行了常压非平衡等离子体渗氮。研究表明，在等离子环境中，试样表面能迅速获得很深的渗层和白亮层，而电场外试样几乎无渗层。说明电场内
【机 构】
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大连海事大学金属材料工艺所
【出 处】
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金属热处理
【发表日期】
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2002年1期
【基金项目】
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国家教委高等学校博士学科点专项科研基金 (970 1 51 0 2 )
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