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期刊论文
硅台面结构凸角腐蚀原因探析
硅台面结构凸角腐蚀原因探析
来源 :仪表技术与传感器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pau998
【摘 要】
:
本文探讨了硅台面结构凸角腐蚀的原因。指出非理想的直角掩膜结构导致了凸角腐蚀,凸角处侧壁由横向腐蚀速率最快的晶面所构成。
【作 者】
:
黄庆安
秦明
【机 构】
:
东南大学微电子中心,东南大学微电子中心南京市210096,南京市210096,南京市210096
【出 处】
:
仪表技术与传感器
【发表日期】
:
1996年1期
【关键词】
:
腐蚀
凸角
硅台面结构
金属切削
Etching
Mask
Convex Corner.
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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本文探讨了硅台面结构凸角腐蚀的原因。指出非理想的直角掩膜结构导致了凸角腐蚀,凸角处侧壁由横向腐蚀速率最快的晶面所构成。
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