【摘 要】
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利用电弧离子镀技术在不锈钢，硅衬底及玻璃衬底上沉积了ＴｉＮ薄膜，并在大气环境下进行了７００℃３０ｍｉｎ退火处理，测量了其退火前后的硬度，Ｘ射线分析了退火前后的成分，对硅衬底上沉积的薄膜则测量了退
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利用电弧离子镀技术在不锈钢，硅衬底及玻璃衬底上沉积了ＴｉＮ薄膜，并在大气环境下进行了７００℃３０ｍｉｎ退火处理，测量了其退火前后的硬度，Ｘ射线分析了退火前后的成分，对硅衬底上沉积的薄膜则测量了退火前的电阻率变化。在玻璃衬底上改变实验条件沉积了不同颜色的薄膜，测量了不同色泽薄膜的电阻率和制备条件的关系，对退火后薄膜内微观结构的变化进行初步分析由此讨论了退火后薄膜硬度及电阻率变化的原因，并解释了讨论了
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