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以H2和CH4的混合气体为气源，用微波等离子体辅助化学气相沉积法（MPECVD）在1cm×,1cmSi（100）基体上沉积了金刚石薄膜。研究了不同的甲烷浓度对金刚石薄膜（100）织构生长趋势的影响。分别采用扫描电子显微镜（SEM），Raman光谱对金刚石膜的表面形貌、质量进行了分析。结果表明，当基体温度为750℃，气压为4．8×10^3Pa，甲烷浓度为1．4％时，薄膜表面为（100）织构。