【摘 要】
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利用平面磁控溅射技术，制备了Ｗ／Ｃ超薄多层膜样品。低角Ｘ射线衍射测试、透射电子显微镜显微剖面分析给出了该样品的结构参数，由这些结构参数模拟给出的光学特性与实测的１．４７ｎｍ的绝对反射率
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利用平面磁控溅射技术，制备了Ｗ／Ｃ超薄多层膜样品。低角Ｘ射线衍射测试、透射电子显微镜显微剖面分析给出了该样品的结构参数，由这些结构参数模拟给出的光学特性与实测的１．４７ｎｍ的绝对反射率角谱有较一致的表现。
W / C thin multi-layer film samples were prepared by planar magnetron sputtering. Low-angle X-ray diffraction (XRD) and transmission electron microscopy (TEM) micrographs show the structural parameters of the sample. The optical characteristics simulated by these structural parameters are consistent with the measured absolute reflectance at 1.47 nm .
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