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在醇水混合溶液中以HMT为缓释沉淀剂制备了纳米CeO2颗粒，并用TEM，SAD，XRD对其形貌和结构进行了表征，将制备的不同粒径纳米CeO2粉体配置成抛光液，对GaAs晶片进行了化学机械抛光，用AFM对其表面粗糙度进行了测量。结果表明，不同尺寸的纳米颗粒具有不同的抛光效果，随着磨料粒径的增大，表面粗糙度值随之升高。