【摘 要】
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目的 通过磁控溅射镀膜工艺,在玻璃上制备高质量的氮镓共掺杂氧化锌（NGZO）薄膜。方法 采用射频磁控溅射法,同时通入氩气和氮气,在流量比分别为25/10、25/20、25/25、25/30（（m L/m
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目的 通过磁控溅射镀膜工艺,在玻璃上制备高质量的氮镓共掺杂氧化锌（NGZO）薄膜。方法 采用射频磁控溅射法,同时通入氩气和氮气,在流量比分别为25/10、25/20、25/25、25/30（（m L/min）/（m L/min））条件下制备NGZO薄膜。通过XRD和SEM对薄膜的物相结构和表面形貌进行分析,通过紫外/可见分光光度计和霍尔效应测试仪对薄膜透过率和载流子浓度、迁移率及薄膜电阻率进行研究。结果 与未掺入N的Ga掺杂氧化锌（GZO）薄膜相比,在可见光区,尤其是600~800 nm范围内,NGZO薄
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