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通过改变电化学腐蚀生成多孔硅膜的工艺条件，了它的发光峰形态的变化，第一次从实验上观测到多孔硅膜的针形发光激光谱和发射光谱，其半峰值宽度小于１０ｎｍ，讨论了形成针形峰的可能机理。
多孔硅膜的半峰值宽度小于10nm的针形发光峰
【摘 要】
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通过改变电化学腐蚀生成多孔硅膜的工艺条件，了它的发光峰形态的变化，第一次从实验上观测到多孔硅膜的针形发光激光谱和发射光谱，其半峰值宽度小于１０ｎｍ，讨论了形成针形峰的可能机理。
【机 构】
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集成光电子学国家重点实验室
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1996年4期
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