原子层沉积方法制备低温多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的研究

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原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜,被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一。本文采用原子层沉积(ALD)技术,在低温(80℃)下,研究了Al2O3及TiO2薄膜的生长规律,通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段,研究了不同堆叠结构的多层Al2O3/TiO2复合封装薄膜的水汽阻隔特性,其中5nm/5nm×8dyads(重复堆叠次数)的Al2O3/TiO2叠层结构薄膜的WVTR达到2.1×10-5 g/m2/day。采用优化后的Al2O3/TiO2叠层结构薄膜对OLED器件进行封装,实验发现封装后的OLED器件在高温高湿条件下展现了较好的寿命特性。
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