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利用高真空中磁场控制的热电子弧光放电离化N2,获得高离化镀等离子体与电子枪蒸发硼配合建立磁控弧光放电增强等离子体--活化反应离子镀方法。并用此方法制备了氮化硼薄膜,红外光谱和X光衍射测量表明,薄膜是纯立方相氮化硼薄膜。
制备立方氮化硼薄膜新方法
【摘 要】
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利用高真空中磁场控制的热电子弧光放电离化N2,获得高离化镀等离子体与电子枪蒸发硼配合建立磁控弧光放电增强等离子体--活化反应离子镀方法。并用此方法制备了氮化硼薄膜,红
【机 构】
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长春大学机械学院吉林长春130022
【出 处】
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吉林工程技术师范学院学报
【发表日期】
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2004年3期
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