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运用一种新的测量单面镀膜膜层光学参数的方法, 对不同热处理的GeTe半导体薄膜样品的光学参数进行了测量, 准确地获得了被测薄膜材料的光学参数, 并采用椭圆偏振光谱测量作比较研究。 以此为基础, 对用椭偏仪测得的数据进行拟合计算, 得出了样品材料在250～830 nm波段范围的复折射率曲线。
不同热处理的GeTe薄膜的光学参数测量
【摘 要】
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运用一种新的测量单面镀膜膜层光学参数的方法, 对不同热处理的GeTe半导体薄膜样品的光学参数进行了测量, 准确地获得了被测薄膜材料的光学参数, 并采用椭圆偏振光谱测量作比较研究。 以此为基础, 对用椭偏仪测得的数据进行拟合计算, 得出了样品材料在250～830 nm波段范围的复折射率曲线。
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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2000年20期
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