【摘 要】
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用反应溅射法制备了Fe-N薄膜和不同Ta含量的Fe-Ta-N薄膜.研究了这些薄膜的结构和磁性与Ta含量的关系.实验发现,Ta的加入有利于抑制薄膜中γ-Fe4N相的生成.加入的Ta部分取代了
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用反应溅射法制备了Fe-N薄膜和不同Ta含量的Fe-Ta-N薄膜.研究了这些薄膜的结构和磁性与Ta含量的关系.实验发现,Ta的加入有利于抑制薄膜中γ-Fe4N相的生成.加入的Ta部分取代了α-Fe晶格中的Fe原子形成了α-Fe(Ta)固溶体,部分则沉积在α-Fe晶粒边界与N生成TaN化合物,抑制了α-Fe晶粒在热处理过程中的长大,提高了薄膜的结构和磁性的稳定性.
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