日本研制成功极薄取向硅钢片

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最近,日本东北大学电气通信研究所研制成功厚度约为5μm的极薄取向硅钢片,推翻了一直认为不能制造厚度150μm以下的取向硅钢片的定论。这种极薄取向硅钢片是经三次再结晶研制成的,即将二次再结晶的材料在约1200℃的高温下在高真空中(或氢气中)进行热处理,使以一次再结晶的状态残留下来的结晶重新成长,成为三次再结晶。该产品具有以 Recently, the Institute of Electrical Communication, Northeastern University, Japan, the successful development of ultra-thin thickness of about 5μm oriented silicon steel sheet, overturned the conclusion that it has been considered that the thickness of 150μm can not be made of oriented silicon steel sheet. This ultra-thin oriented silicon steel sheet is developed by three recrystallization, that is, the material of the secondary recrystallization is heat-treated in a high vacuum (or in hydrogen) at a high temperature of about 1,200 ° C so as to remain in the state of primary recrystallization The crystallization of the next growth, becoming three recrystallization. The product has to
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