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为了抑制乙烯裂解炉管内表面结焦，采用常压化学气相沉积方法在HP40试样上制备了SiO2／S涂层。用SEM和Raman光谱研究了沉积温度、源物质分压以及气体流速对SiO2／S涂层形貌和结构的影响。结果表明随着沉积温度的增加，涂层组成粒子直径变化不大，粒子之间的结合更为致密，同时生成的三节环Si-O-Si结构逐渐增多，Si-O-S结构逐渐减少。气体流速与源物质分压对涂层粒子形貌的影响规律相似，随着各自参数的增加，涂层粒子逐渐增大，涂层更加致密。源物质分压和气体流速分别为40Pa和0．4m·s^-1时